Path-creating networks in the field of next generation lithography: outline of a research project

Abstract

Der Beitrag stellt ein Forschungsprojekt vor, das die möglichen technologischen Pfade bei der Entwicklung von Halbleitern untersucht, die schließlich zu einer Produktion, also zu einer Umsetzung des technologischen Fortschritts, führen. An solch einem Vorgang sind Personen mit unterschiedlichem wissenschaftlichem Hintergrund (optische Physik, Elektrotechnik, Chemie) und verschiedene Gesellschaftsbereiche (Wissenschaft, Wirtschaft, Staat) beteiligt. In diesem Zusammenhang stellt sich nun die Ausgangsfrage des Projektes, in welchem Umfang, unter welchen Bedingungen und Organisations-Netzwerken die Kreation eines neuen technologischen Pfades möglich ist. In das Thema einführend, wird zunächst der Forschungsstand zum Zusammenhang zwischen der Theorie der Pfadabhängigkeit und dem Konzept der Pfadkreation im Prozess der Technologieentwicklung beschrieben. Auf dieser Grundlage folgt die Konzeptionalisierung des dargestellten Forschungsprojektes. Im Anschluss wird das empirische Untersuchungsfeld in seinen Grundzügen präsentiert: die Entwicklung einer neuen Lithographie-Generation für Halbleiter mit besonderer Berücksichtigung der unterschiedlichen technologischen Pfade, die als realisierbar anzusehen sind. So gilt es, bei der Betrachtung der Pfadkreation von technologischen Neuerungen die Entwicklung reflexiver interorganisationaler Netzwerke zu betrachten. Gemäß der spezifischen Forschungsfragen werden abschließend das Forschungsdesign und die methodologische Vorgehensweise präsentiert. So ist das Projekt auf den Zeitraum von 2004 bis 2009 zugeschnitten und umfasst drei Interviewphasen. Auf diese Weise kann der Innovationsprozess der nächsten Lithographie-Generation in Realzeit bis zur voraussichtlichen Produktion dieser neuen Systemtechnologie untersucht werden. (ICG2)