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Path-creating networks in the field of next generation lithography : outline of a research project

Pfad-kreierende Netzwerke auf dem Gebiet der nächsten Lithographie-Generation : Konzept eines Forschungsprojektes
[Arbeitspapier]

Sydow, Jörg; Windeler, Arnold; Möllering, Guido

Zitationshinweis

Bitte beziehen Sie sich beim Zitieren dieses Dokumentes immer auf folgenden Persistent Identifier (PID):http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:0168-ssoar-11773

Weitere Angaben:
Körperschaftlicher Herausgeber Technische Universität Berlin, Fak. VI Planen, Bauen, Umwelt, Institut für Soziologie Fachgebiet Techniksoziologie
Abstract Der Beitrag stellt ein Forschungsprojekt vor, das die möglichen technologischen Pfade bei der Entwicklung von Halbleitern untersucht, die schließlich zu einer Produktion, also zu einer Umsetzung des technologischen Fortschritts, führen. An solch einem Vorgang sind Personen mit unterschiedlichem wissenschaftlichem Hintergrund (optische Physik, Elektrotechnik, Chemie) und verschiedene Gesellschaftsbereiche (Wissenschaft, Wirtschaft, Staat) beteiligt. In diesem Zusammenhang stellt sich nun die Ausgangsfrage des Projektes, in welchem Umfang, unter welchen Bedingungen und Organisations-Netzwerken die Kreation eines neuen technologischen Pfades möglich ist. In das Thema einführend, wird zunächst der Forschungsstand zum Zusammenhang zwischen der Theorie der Pfadabhängigkeit und dem Konzept der Pfadkreation im Prozess der Technologieentwicklung beschrieben. Auf dieser Grundlage folgt die Konzeptionalisierung des dargestellten Forschungsprojektes. Im Anschluss wird das empirische Untersuchungsfeld in seinen Grundzügen präsentiert: die Entwicklung einer neuen Lithographie-Generation für Halbleiter mit besonderer Berücksichtigung der unterschiedlichen technologischen Pfade, die als realisierbar anzusehen sind. So gilt es, bei der Betrachtung der Pfadkreation von technologischen Neuerungen die Entwicklung reflexiver interorganisationaler Netzwerke zu betrachten. Gemäß der spezifischen Forschungsfragen werden abschließend das Forschungsdesign und die methodologische Vorgehensweise präsentiert. So ist das Projekt auf den Zeitraum von 2004 bis 2009 zugeschnitten und umfasst drei Interviewphasen. Auf diese Weise kann der Innovationsprozess der nächsten Lithographie-Generation in Realzeit bis zur voraussichtlichen Produktion dieser neuen Systemtechnologie untersucht werden. (ICG2)
Thesaurusschlagwörter research project; research status; research approach; path analysis; technology; technological progress; technical development; genesis of technology; knowledge transfer; knowledge management; network; network analysis; social network; science; economy; national state; enterprise; cooperation; organization; scientist; path dependence; reflexivity
Klassifikation Wissenschaftssoziologie, Wissenschaftsforschung, Technikforschung, Techniksoziologie
Methode anwendungsorientiert; deskriptive Studie
Freie Schlagwörter Pfadkreation; Netzwerke; Technikentwicklung; Lithography; Systeminnovation; Studie
Sprache Dokument Englisch
Publikationsjahr 2004
Erscheinungsort Berlin
Seitenangabe 25 S.
Schriftenreihe TUTS - Working Papers, 2-2004
Status Veröffentlichungsversion; begutachtet
Lizenz Digital Peer Publishing Licence - Basismodul
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